远紫外成像光谱仪的若干关键技术

远紫外成像光谱仪的若干关键技术

1、远紫外成像光谱仪与一般色散型成像光谱仪的主要不同点在于其波段的特殊性，必须使用特殊的材料和器件。下面分别从窗121材料、光源、远紫外探测器以及远紫外镀膜等方面对远紫外成像光谱仪的关键技术进行分析。

2、能够透射远紫外波段辐射的窗I=I材料很少且难于制造和加工。氟化镁(MgF2)是一种应用于远紫外波段的很好的窗口材料和镀膜保护材料，其透射范围为l15-8 500nln；如果要达到105 am，则需选用氟化锂(LiF)作为窗口材料。

3、为了对研发的成像光谱仪进行实验和定标，一般选择能够辐射出115-200 nm远紫外光的灯作为标准光源，如带有MgF2窗口的惰性气体灯或空心阴极灯等。

4、应用于遥感领域的远紫外成像探测器要求在115-200 nm光谱波段有极高的灵敏度。需要采用特殊紫外光阴极材料(如CsI，CsTe)和多层堆叠MCP构成高增益的像增强器，制成远紫外二维高增益ICCD成像探测器以满足成像光谱探测的要求。

5、铝以其高反射系数的特点常被用作这一波段的反射镀膜材料。为了防止铝膜氧化，可以镀一层或多层MgF2保护膜，这样可以显著提高铝的反射系数，通过设计MgF2保护膜的厚度，可以在远紫外波段得到尽可能高的反射率。